이재용 삼성전자 부회장의 경자년 첫 경영행보는 반도체 개발현장이라고 어제(2일) 전해드렸습니다. 이 부회장은 이날 화성사업장 안에 있는 반도체연구소를 찾았습니다.
이 자리에서 세계 최초로 개발한 ‘3나노 공정기술’ 내용에 대해 보고받은 이 부회장은 DS(디바이스솔루션)부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의하며 다음과 같이 말했다고 합니다.
“여러분, 과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않습니다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것입니다.”
한편 삼성전자가 파운드리(반도체 위탁생산) 업체 경쟁사인 대만기업 TSMC보다 먼저 3나노 공정기술 개발에 성공함에 따라 2030년까지 시스템반도체 1위 목표에 한발 더 가까워졌습니다.
3나노 반도체는 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술이 적용돼 공정 개발을 완료한 5나노 제품보다 칩 면적은 35% 축소하고 소비전력은 절반이나 줄였습니다. 공정이 미세할수록 칩 크기를 작게 만들 수 있고, 성능과 전력효율도 개선할 수 있습니다.
삼성전자는 지난해 4월 개발을 완료한 5나노 공정기술은 조만간 양산에 들어간다는 계획입니다. 3나노 공정기술도 내년에는 양산에 들어갈 것으로 보입니다. 이러한 ‘초격차’를 통해서 2030년까지 메모리반도체뿐만 아니라 시스템반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 것이 삼성전자의 목표입니다.
이 부회장 부친인 이건희 회장의 어록 중에 이런 말이 있습니다. “기회는 눈 깜빡하는 사이에 지나간다” “산삼밭에 가야 산삼을 캘 수 있다”.
이재용 부회장이 새해 처음으로 강조한 역사를 만들어갈 ‘차세대 반도체’가 새로운 산삼밭이 될지 지켜볼 일입니다.
